12英寸PECVD设备PF-300T
产品介绍:
PF-300T 是国家十一五重大专项所支持，由我公司自主研发的 12英寸 PECVD 设备，拥有 100%知识产权。其用于 40-28纳米集成电路的生产，具有 14-5纳米技术的延伸性。设备成本（CoO）及性能指标达到优异水平。设备已在多家国内及台湾企业的大规模集成电路及先进封装生产线（TSV）实施量产，充分展现国产半导体设备的实力与成果。PF-300T 是国家十一五重大专项所支持，由我公司自主研发的 12英寸 PECVD 设备，拥有自主知识产权。其用于 40-28纳米集成电路的生产，具有 14-5纳米技术的延伸性。设备生产成本（CoO）及性能指标达到优异水平。设备已在多家国内及台湾企业的大规模集成电路及先进封装生产线（TSV）实施量产，充分展现国产半导体设备的实力与成果。PF-300T 是国家十一五重大专项所支持，由我公司自主研发的 12英寸 PECVD 设备，拥有自主知识产权。其用于 40-28纳米集成电路的生产，具有 14-5纳米技术的延伸性。设备生产成本（CoO）及性能指标达到优异水平。设备已在多家国内及台湾企业的大规模集成电路及先进封装生产线（TSV）实施量产，充分展现国产半导体设备的实力与成果。
产品特点：
- 国际水平的性能指标
- 量产验证的SiO2，SiN，SiON及TEOS SiO2标准工艺
- 可依客户选择配置1-3路液态源，实现多种先进工艺
- 具备TSV所需的低温（<200℃）TEOS SiO2工艺
- 可与8英寸兼容互相切换
- 具有优异的产能和CoO
- 通过S2安全认证和F47标准检验
