建立世界领先的薄膜设备公司
企业使命
- 建立世界领先的薄膜设备公司
- 开发最先进的科技
- 致力于提供具有竞争力的产品
- 培养国内新一代人才
- 建立健康向上的企业文化
沈阳拓荆科技有限公司成立于2010年4月，是由海外专家团队和中科院所属企业共同发起成立的国家高新技术企业，专业从事高端半导体薄膜设备的研发、生产、销售与技术服务。公司三次承担国家科技重大专项。2016年、2017年、2019年获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。
公司拥有12英寸PECVD（等离子体化学气相沉积设备）、ALD（原子层薄膜沉积设备）、3D NAND PECVD（三维结构闪存专用PECVD设备）三个完整系列产品，拥有自主知识产权，技术指标达到国际较先进水平。产品广泛应用于集成电路前道和后道、TSV封装、光波导、LED、3D-NAND闪存、OLED显示等高端技术领域。公司在北京、天津、厦门、武汉、深圳、合肥、重庆、长三角、西安、厦门等地区都设有技术服务中心，为客户提供每周7天，每天24小时的技术服务。
公司现有十余名海外专家，形成具有资深经验的国内外专家团队。拓荆通过多年技术积累，已形成自主知识产权体系，截止到2020年9月底累计申请专利453项，荣膺国家知识产权局颁发的“国家知识产权示范企业(2019-2022)”称号。
公司总部坐落于沈阳市浑南区，占地80亩，拥有现代化办公大楼及高等级洁净厂房，总建筑面积达40,000平方米。第一期生产能力可实现年产100台套，全部投产可达350台套设备，支撑年产值50亿元的产业规模。公司营运已通过ISO9001、ISO14001、ISO45001体系的认证，并拥有覆盖全球的供应商网络。
拓荆公司愿与业界伙伴建立真诚、友好、共赢的产业合作联盟，为中国及世界半导体产业的发展做出贡献。
